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Sputtertargets

Die physikalische Dampfabscheidung (PVD) ist ein Verfahren, bei dem ein Material ineiner  Vakuumumgebung von einer festen Quelle verdampft wird. Der Dampf wird von der Quelle zum Substrat transportiert und kondensiert auf diesem, um eine  Dünnschicht zu bilden. Die Dicke der abgeschiedenen Schicht reicht von wenigen Nanometern bis zu einigen Mikrometern, mit einer typischen Abscheidungsrate von 1-10 nm/s.

Die Technologie, die allgemein für die Herstellung der von uns angebotenen Sputtertargets verwendet wird, ist Vakuumschmelzen und heiss gepresstes Sintern. Die finalen Targets weisen Merkmale wie hohe Reinheit, hohe Dichte, geringen
Gasgehalt und eine gleichmäßige interne Struktur auf. Sie werden in verschiedenen
Dimensionen hergestellt.

High-purity rectangular sputtering targets with copper bonding for physical vapor deposition
Pure metal sputtering target disc for PVD coating applications

Reinmetall-Sputtertargets

Reinmetall-Sputtertargets sind sowohl in planarer als auch in rotierender Form erhältlich. Sie werden aus einer Vielzahl von Metallelementen des Periodensystems hergestellt und in verschiedenen Dimensionen sowie mit hohen Reinheitsgraden angeboten.
Symbol Reinheit Form
Ti 2N7, 3N5, 4N, 4N5, 5N Planar, Rotierend
W 3N5 Planar, Rotierend
Cr 2N5, 2N7, 2N8, 3N, 3N5 Planar, Rotierend, Kathode
Al 4N, 5N, 5N5, 6N Planar, Rotierend, Kathode
Ni 3N, 3N5, 4N, 4N5, 5N Planar, Rotierend
Cu 3N5, 4N, 4N5, 5N, 6N Planar
Co 3N5, 5N Planar
Fe 3N, 3N5, 4N Planar, Rotierend
V 3N, 3N5 Planar
Zn 3N5, 4N, 5N Planar
Sn 4N, 5N Planar, Rotierend
Mo 3N5 Planar, Rotierend
Ta 3N5, 4N, 4N5, 5N Planar, Rotierend
Symbol Reinheit Form
Nb 3N, 3N5 Planar, Rotierend
B 3N Planar
Bi 4N, 5N Planar
Be 2N Planar
In 4N, 5N Planar
Pb 4N Planar
Mn 3N Planar
Pd 3N5 Planar
Ru 3N5 Planar
Si 4N, 5N, 6N Planar, Rotierend
Se 4N, 5N Planar
Zr 2N4, 3N5 Planar, Rotierend
Ge 5N, 6N Planar
Kontaktieren Sie uns für weitere Details und Abmessungen.

Legierungs-Sputtertargets

Wir bieten Sputtertargets aus verschiedenen Legierungen in hoher Reinheit an, sowohl planar als auch rotierend und in verschiedenen Abmessungen. Kundenspezifische Fertigung ist für uns selbstverständlich.
Symbol Purity Shape
AlTi 2N8, 3N Planar
AlCr 2N8, 3N Planar
AlSi 4N, 5N Planar
AlSc 3N, 4N Planar
AlCu 4N, 5N Planar
AlNd 3N, 4N Planar
CeGd 3N Planar
CoTaZr 3N, 3N5 Planar
CoFeB 3N Planar
CoCr 3N, 3N5 Planar
Symbol Reinheit Form
Cu+Ni+Ti 3N, 4N Planar
Cu+Ni 3N, 3N5, 4N Planar, Rotierend
Fe+Mn 3N Planar
Fe+Cr 3N Planar
Ni+V 3N, 3N5 Planar
Ni+Fe 3N, 3N5 Planar
Ni+Cu 3N Planar
Ni+Cr 2N5, 3N, 3N5 Planar
Ni+V 3N, 3N5 Planar
WTi 3N5, 4N, 4N5 Planar
Kontaktieren Sie uns für weitere Details und Abmessungen.

Seltene-Erden-Sputtertargets

Seltene Erden besitzen ausgezeichnete magnetische, elektrische und optische Eigenschaften, weshalb Sputtertargets aus diesen Materialien weit verbreitet sind. Hochtechnologische Industrien wie Elektronik, Optik, Halbleiterfertigung und andere sind typische Anwendungsbereiche für den Einsatz von Seltenen Erden.
Symbol Purity Shape
Sc 3N, 4N Planar
Y 3N, 4N Planar
Ce 3N Planar
Dy 3N Planar
Er 3N Planar
Symbol Purity Shape
Gd 3N Planar
Ho 3N Planar
Lu 3N Planar
Nd 3N Planar
Yb 3N, 4N Planar
Kontaktieren Sie uns für weitere Details und Abmessungen.

Keramische Sputtertargets

Verfügbar sind Oxid- und Nicht-Oxid-Keramik-Sputtertargets. Für empfindliche Materialien wie Keramiken bieten wir Indium- und Elastomer-Bonding auf Kupferträgerplatten an. Wir empfehlen dringend, bereits gebondete Targets zu bestellen, um das Risiko von Rissen zu vermeiden, die auftreten können, wenn man sie selbst bondet.
Symbol Purity Shape
AZO 3N5, 4N Planar
AlN 2N5 Planar
Al2O3 4N Planar
B4C 2N5 Planar
BN 2N5 Planar
BaTiO3 3N Planar
CeO2 3N, 4N Planar
HfO2 3N, 4N Planar
IGZO 4N Planar
ITO 4N Planar
In2O3 3N, 4N Planar
LiNbO3 3N5, 4N Planar
LiCoO2 3N Planar
LiMn2O4 3N Planar
LiCoO2 3N5, 4N Planar
MoS2 3N Planar
Symbol Purity Shape
MgO 3N5, 4N Planar
MoO3 3N Planar
NiO 3N5, 4N Planar
Nb2O5 4N Planar
Si3N4 2N5 Planar
SiO2 4N, 4N5 Planar
SiO 4N Planar
SiC 2N5 Planar
SiO2 4N, 4N5 Planar
TiO2, TiOx 3N5, 4N Planar, Rotierend
Ta2O5 4N Planar
SrTiO2 4N Planar
Y2O3 4N Planar
AZO-ZnO/Al2O3 4N Planar
ZrO2 4N Planar
ZnO 3N5 Planar, Rotierend
Kontaktieren Sie uns für weitere Details und Abmessungen.

Individuelle Sputtertargets

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